荷蘭擴大ASML曝光機出口管制 北京怒:堅決反對
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荷蘭政府上周五(6 日) 以國安風險為由,公布新的出口管制規定,擴大半導體設備大廠 ASML 的出口限制,中國商務部對此在周日發表聲明,表示堅決反對。
根據荷蘭政府於上周六生效的新規定,ASML 現在需要向政府申請出口許可,才能向中國提供 2 款深紫外線曝光機(DUV)。
ASML 是全球唯一生產尖端曝光機的製造商,這些曝光機可用於生產電動車、軍事裝備等用途所需要的高階晶片。
中國商務部周日對此表示,近來中荷雙方就半導體出口管制問題展開多層級、多頻次的溝通磋商。荷方在 2023 年半導體出口管制措施的基礎上,進一步擴大對曝光機的管制範圍,中方對此表示不滿。
中方說,近年來,美國為維護自身全球霸權,不斷泛化國家安全概念,脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施,嚴重威脅全球半導體供應鏈穩定,嚴重損害相關國家和企業的正當權益,中方對此堅決反對。
中國商務部強調,荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發,尊重市場原則和契約精神,避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展,不濫用出口管制措施,切實維護中荷企業和雙方共同利益,維護全球半導體供應鏈穩定。