荷蘭本周宣布將對半導體技術和設備出口實施更多管制，知情人士透露，這項計畫將阻止艾司摩爾 (ASML-US) 向中國出售另外三種型號的深紫外光 (DUV) 光刻機台。

彭博引述知情人士說法報導，荷蘭的最新限制措施可能影響包含「TWINSCAN NXT:2000i」、「NXT:2050i」和「NXT:2100i」的出貨，上述型號都屬於浸潤式 DUV 設備。

針對上述報導，ASML 發言人提到本周稍早發布的公司聲明。

ASML 周三 (8 日) 表示，雖然沒有取得政府公開聲明以外，有關最新出口管制的其他訊息，但據該公司解讀，最新禁令可能包含 TWINSCAN NXT:2000i 以及後續推出的浸潤式 DUV 設備。

在與其他技術搭配使用下，浸潤式光刻設備的應用相當廣泛，可用於生產軍事硬體、智慧手機等商品所需的先進半導體。

因美國施壓，荷蘭政府從 2019 年開始禁止艾司摩爾向中國出口最先進的極紫外光刻 (EUV) 設備，但仍可銷售上一代的 DUV 機台。

荷蘭政府發言人拒絕對彭博報導置評。

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