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中國首台EUV曝光機原型機正式出光 斥資400億美元建構自主半導體鏈路
07/13
曝光機
極紫外光
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LDP
《富比士》EUV霸權恐被打破？「這些技術」或2030年前重塑先進晶片製造
07/13
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ASML稱次世代EUV設備已可用於量產 AI晶片生產迎關鍵轉折
02/27
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