荷蘭半導體觀察家 Marc Hijink 近日在《新鹿特丹報》撰文直言，中國半導體產業目前最難跨越的門檻，仍是先進微影設備，即艾司摩爾 (ASML-US) 的極紫外光（EUV）曝光機，這項技術至今仍無任何替代方案。

根據報導，華為等中國企業正積極在晶片設計領域尋求技術突破，其中一項關鍵策略，是採用開源指令集架構 RISC-V，試圖繞開美國主導的 x86 架構與 ARM(ARM-US) 架構所受到的出口管制限制。

根據陸媒先前的歸納，中國晶片產業的發展路徑大致可分為兩種典型模式。第一種被稱為「高鐵模式」，以海思、海光、飛騰等業者為代表，循「引進—消化—吸收—再創新」的路徑，逐步打造具市場競爭力的產品。

第二種則是「北斗模式」，以龍芯中科 (688047-CN) 為代表，選擇從零打造完全自主的技術體系與產業生態，追求徹底的自主可控。業內普遍認為這兩種模式並非互斥，而是相互補充的發展思路。

以華為 Mate60 系列搭載的麒麟 9000S 晶片為例，部分核心運算單元採用華為自研的「泰山架構」，但整體指令集仍未脫離 ARM 陣營。這也是該款手機能迅速重新融入既有軟體生態、讓華為手機業務快速回春的關鍵原因之一。

除了延續 ARM 相容路線外，華為旗下半導體與器件設計公司海思也同步推進 RISC-V 架構的晶片研發。根據海思官方公開資料，該公司已運用 RISC-V 開發出多款晶片，應用範圍涵蓋智慧家電、電動載具、吹風機、按摩椅等消費性產品，同時也延伸至太陽能逆變器、可攜式儲能裝置等工業應用領域。

分析指出，RISC-V 屬於免費開源的指令集架構，精簡指令集的設計理念與 ARM 有相似之處，但整體產業生態的成熟度目前仍遠不及 ARM。

相較之下，英特爾 (INTC-US) 主導的 x86 屬於複雜指令集架構，主要瀚向個人電腦、行動工作站等高效能運算市場。

值得注意的是，ARM 公司總部雖設於英國，但其技術體系中仍包含大量美國技術元素，產業生態同樣由美國企業主導，因此 ARM 與 x86 一樣，其最新架構的授權與更新都可能受到美國政府政策的牽制。

不過，中國科學院半導體研究所轉載的相關報導也提到，大規模推動 RISC-V 面臨的最大挑戰在於產業生態與經濟成本。

華為海思目前僅在物聯網領域小規模採用 RISC-V，但伺服器主力仍依賴 ARM 指令集。若要全面轉向 RISC-V，意味著必須重建整條供應鏈、重新培訓工程團隊，並改寫底層軟體生態，所需投入的成本相當龐大，業界普遍認為須謹慎評估。

EUV 曝光機：全球唯一的技術孤島

在指令集架構之外，中國本土 EUV 曝光機的研發工作也同步進行中。

Hijink 指出，中國企業在 EUV 領域已投入多年研發資源，並取得若干專利，但他同時提醒，荷蘭設備巨頭艾司摩爾當年也耗費約 15 年時間，才成功讓 EUV 技術從光源原理走向實際量產，這牽涉光源技術與高精度工業製造的複雜整合，過程中已有競爭者因技術難度過高而退場。

Hijink 所提到的退場案例，正是日本光學大廠尼康。尼康過去投入逾 1000 億日元研發 EUV 技術，但截至 2018 年仍未能拿出可實際量產的原型機。

相較之下，艾司摩爾同期已將量產級 EUV 設備交付客戶，投入 7 奈米製程晶片生產，尼康最終在這場競賽中黯然退出。

報導分析認為，相較於晶片設計軟體、架構與指令集領域，中國本土廠商雖技術上仍落後國際先進水準，但已具備一定的技術積累與市場規模，可循不同路徑尋求突破。

然而，EUV 微影設備的處境則更為嚴峻。不僅中國本土尚無商業化量產設備，放眼全球，這項技術也幾乎被荷蘭艾司摩爾一家獨佔，堪稱集結全球頂尖資源才得以實現的技術成果，絕非單一企業所能複製。

報導最後指出，中國企業在現有出口管制環境下投入自主 EUV 研發，等同於踏入一片技術「無人區」。

儘管 EUV 曝光機屬於極尖端的工業設備，但只要是工業製造技術，理論上終究存在可行的研發路徑與技術方法，這也將是觀察中國半導體產業後續發展的重要指標。