根據路透周一 (3 日) 報導，全球最大半導體設備商艾司摩爾 (ASML-US) 已與比利時晶片研究公司 Imec 合作開設一個實驗室，用來測試其高數值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV)。

據了解，該實驗室位於艾司摩爾荷蘭總部德霍溫 (Veldhoven)，經過多年的建設，將讓頂尖的晶片製造商與其他設備和材料供應公司有機會盡早使用這一價值 3.5 億歐元(約 3.8 億美元) 的最新設備。

新的 High-NA EUV 能生產新一代更小、效能更快的晶片。艾司摩爾周一重申，預料客戶將在 2025 年至 2026 年開始使用這款新設備進行商業生產。

迄今為止，艾司摩爾只向英特爾 (INTC-US) 交付另外一台測試機器，後者計劃在 2025 年將該工具用於其 14A 製程。另外，艾司摩爾有十多個 EUV 設備的訂單，但其最大的 EUV 設備客戶台積電 (2330-TW) 表示，預估 2025 年投產的 A16 晶片不需要使用 High NA 設備。

ASML 在曝光機設備市場占主導地位，該設備是晶片製造過程中的核心步驟。在晶片製造商中，只有台積電、三星、英特爾以及記憶體專家 SK 海力士 (SK Hynix) 能夠使用艾司摩爾當前一代的極紫外光或 EUV 設備進行生產，而新一代 High-NA EU 能生產更小且更快速的晶片。