中國團隊稱破解晶片光阻劑缺陷難題！晶片良率提升超99%
中國晶片半導體光阻劑DUVEUV研究突破TOP
中芯測試首台浸潤式國產DUV 外媒估技術規格落後艾司摩爾17年
中芯國際艾司摩爾浸潤式技術上海宇量昇華為出口管制半導體DUV
中國DUV國產化技術大突破 晶片自主不是夢？
DUV光刻機ASML
中國中芯國際測試首款國產DUV曝光機！挑戰艾司摩爾AI晶片技術霸權
中芯國際AI晶片DUV艾司摩爾中美美中EUV中國美國TOP光刻機曝光機
美國官員稱制裁奏效！中國晶片仍卡在2023年水準、EUV成關鍵
中國晶片美國制裁技術EUVDUVTOP
現在以後都不會！美商務部長明確拒絕對中國出口先進晶片 中美晶片與稀土博弈持續升級
晶片禁令盧特尼克14奈米以下DUVEUV艾司摩爾稀土管制美中科技戰
繞開歐美專利技術封鎖？中國科學院研發新的DUV光源技術 理論上可支援3奈米節點
中國科學院CAS艾司摩爾3奈米DUV深紫外光光刻機
中國營收占比36.1%！艾司摩爾今年將升級北京維修中心
半導體艾司摩爾DUVEUV光刻機
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