荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML-US) 周四 (21 日) 表示，第一套高數值孔徑極紫外光 (High NA EUV) 微影設備，已交貨給英特爾 (INTC-US)。

這款最先進 EUV 曝光機每台價格超過 3 億美元，將幫助英特爾製造更小、更快的半導體。

ASML 在社群媒體 X 平台上張貼的圖片顯示，機器的某一部分裝在一個系上紅色絲帶的保護箱裡，正從荷蘭 Veldhoven 總部出發。

ASML 透過聲明說：「我們感到興奮又驕傲，將把第一台 High NV EUV 曝光機交付給英特爾。」

ASML 是微影設備市場霸主，這台最強曝光機組裝後將比卡車還大，必須用 13 個貨櫃、250 個木盒子裝載，預定 2026 年或 2027 年應用在商業晶片製程上。

英特爾在 2022 年訂購 ASML 首台 High NV EUV 試用機，而包括台積電 (2330-TW)、三星電子、SK 海力士和美光 (MU-US)，也都陸續訂購這款曝光機。ASML 曾在 11 月 30 日表示，預定今年年底前交付首批機台。